中文名称:三苯基硫鎓 1,1,2,2-四氟-6-(1-金刚烷羰基氧基)己烷-1-磺酸盐

中文别称:(根据英文结构可译为) 三苯基锍 1,1,2,2-四氟-6-(1-金刚烷羰基氧基)己烷-1-磺酸盐

英文名称:triphenylsulfonium 1,1,2,2-tetrafluoro-6-(1-adamantanecarbonyloxy)hexane-1-sulfonate

英文别称:Sulfonium, triphenyl-, 5,5,6,6-tetrafluoro-6-sulfohexyl tricyclo[3.3.1.13,7]decane-1-carboxylate

分子式:C??H??S·C??H??F?O?S

分子量:678.8

主要用途
它是一种光刻胶单体(Photoresist monomer),主要用于半导体制造领域。

作用机理:作为一种鎓盐类光酸产生剂(Photoacid Generator, PAG),在曝光时分解产生酸,进而催化光刻胶树脂的化学变化。

结构特点:其分子中包含金刚烷和含氟磺酸盐结构。金刚烷基团常用于提升光刻胶的耐刻蚀性,而氟原子的引入则有助于提高光酸的扩散效率和产率。

最终效果:在深紫外(DUV)光刻等先进光刻工艺中,用于形成高分辨率的精细电路图案。